Samsung тратит $773 млн на 2 установки экстремальной ультрафиолетовой литографии

Согласно сообщениям, Samsung тратит $773 миллиона на покупку двух самых современных литографических установок у нидерландской компании ASML — единственного производителя подобных машин в мире.

Компания направляет эти средства на приобретение двух лучших установок экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, поставка которых ожидается к середине следующего года. Это инвестиция стратегического значения, которая должна укрепить позиции Samsung на мировом рынке полупроводников.

По имеющейся информации, одна из установок, модель Twinscan EXE:5200B, будет доставлена в Южную Корею уже до конца этого года, а вторая — в первой половине следующего.

Ранее Samsung уже имела возможность ознакомиться с оборудованием этого уровня: в начале года компания получила исследовательскую версию машины для тестов. Текущая покупка станет первой поставкой EUV-систем с высокой числовой апертурой (High NA), предназначенных для массового производства чипов по 2-нм техпроцессу.

После трудностей, возникших при переходе на 3-нм технологию, Samsung делает особый акцент на разработке и освоении 2-нм и более тонких техпроцессов. С тех пор как Джинман Хан возглавил подразделение полупроводникового производства, он поставил инженерам задачу сосредоточиться именно на 2-нм чипах. Глава компании Джей Й. Ли, по данным источников, лично курирует этот проект.

Сообщается, что новые установки будут размещены на производственных линиях, где уже выпускается чип Exynos 2600. Предполагается, что это же оборудование будет использоваться для изготовления 2-нм AI-чипов компании Tesla, в рамках заключенного между компаниями соглашения стоимостью $16.5 миллиарда.