Бывшие сотрудники TSMC сфотографировали на смартфон особенности 2-нм процесса и слили фото

По информации UDN, ряд инженеров TSMC уже признаны виновными в нарушении закона о национальной безопасности. Прокуратура настаивает на суровом наказании — вплоть до 14 лет лишения свободы.

Следствие утверждает, что в период с 2023 года до середины 2025 года сотрудники компании У Бинцзюнь и Гэ Ипин получали предложения от Чэнь Лимина, представляющего Tokyo Power Co., передать критически важные разработки и коммерческую информацию. Компания рассчитывала расширить присутствие на рынке, став поставщиком оборудования для предприятий, работающих с передовыми технологиями TSMC.

Согласно материалам дела, Tokyo Power Co. анализировала данные, которые инженеры фиксировали на смартфоны, и на их основе улучшила параметры установок для травления. Это позволило компании приблизиться к получению допуска на поставки оборудования для массового производства на фабриках TSMC с использованием 2-нм техпроцесса.

Ранее служба безопасности TSMC уже выявляла попытки несанкционированного доступа к внутренним системам. По данным расследования, часть сотрудников фотографировала конфиденциальные материалы прямо на производстве, где внедряется 2-нм технология.

Ключевой фигурой в деле считается бывший сотрудник TSMC Чэнь Вэйцзе, который после ухода из компании перешел в Tokyo Electron. Предполагается, что сбор секретной информации был направлен на изучение особенностей 2-нм процесса травления и совершенствование оборудования TEL в условиях конкуренции с тайваньским производителем.

Кроме того, отдельное расследование ведется в отношении Вэй-Джен Ло — еще одного бывшего сотрудника TSMC, ныне работающего в Intel, которого также подозревают в передаче технологических секретов.