Samsung витрачає $773 млн на 2 установки екстремальної ультрафіолетової літографії

На тлі зростання інтересу клієнтів до виробництва чипів на передових техпроцесах Samsung знову робить великі інвестиції в нове обладнання, прагнучи ефективніше конкурувати з головним суперником у цій сфері — компанією TSMC з Тайваню.

Згідно з повідомленнями, Samsung витрачає $773 мільйона на покупку двох найсучасніших літографічних установок у нідерландської компанії ASML — єдиного виробника таких машин у світі.

Компанія спрямовує ці кошти на придбання двох найкращих установок екстремальної ультрафіолетової (EUV) літографії, постачання яких очікується до середини наступного року. Це інвестиція стратегічного значення, яка має зміцнити позиції Samsung на світовому ринку напівпровідників.

За наявною інформацією, одна з установок, модель Twinscan EXE:5200B, буде доставлена ​​до Південної Кореї вже до кінця цього року, а друга — у першій половині наступного.

Раніше Samsung вже мала можливість ознайомитися з обладнанням цього рівня: на початку року компанія отримала дослідницьку версію машини для тестів. Поточна покупка стане першим постачанням EUV-систем з високою числовою апертурою (High NA), призначених для масового виробництва чипів по 2-нм техпроцесу.

Після труднощів, що виникли при переході на 3-нм технологію, Samsung робить особливий акцент на розробці та освоєнні 2-нм і тонших техпроцесів. Відколи Джинман Хан очолив підрозділ напівпровідникового виробництва, він поставив інженерам завдання зосередитися саме на 2-нм чипах. Голова компанії Джей Й. Лі, за даними джерел, особисто займається цим проєктом.

Повідомляється, що нові установки будуть розміщені на виробничих лініях, де вже випускається чип Exynos 2600. Передбачається, що це обладнання буде використовуватися для виготовлення 2-нм AI-чипів компанії Tesla, в рамках укладеної між компаніями угоди вартістю $16.5 мільярда.