Компанія Corning представила нову розробку, яка відрізняється від звичних рішень.

Цього разу йдеться не про чергове захищене скло для гаджетів, а про свіжий матеріал з вкрай низьким рівнем теплового розширення, призначений для застосування в сучасних літографічних системах, що працюють на технологіях Low-NA і High-NA EUV.

Цей новий матеріал, названий Extreme ULE, буде використовуватися при створенні фотошаблонів та дзеркал для літографії для майбутніх поколінь пристроїв.

Основною перевагою Extreme ULE є його мінімальний коефіцієнт теплового розширення, що дозволяє досягти високої однорідності у виробництві фотошаблонів.

Як зазначено в офіційному повідомленні, його ідеальна площинність і рівномірність суттєво зменшують хвилястість, знижуючи рівень небажаних відхилень, що дає можливість наносити передові покриття.